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Toppan Photomask與IBM簽署半導(dǎo)體EUV光罩聯(lián)合研發(fā)協(xié)議

2024-02-07 09:00

推進面向IBM 2奈米技術(shù)的EUV光罩開發(fā)

東京2024年2月7日 /美通社/ -- 居於全球領(lǐng)先地位的半導(dǎo)體光罩供應(yīng)商Toppan Photomask宣布已與IBM就使用極紫外(EUV)光刻技術(shù)的2奈米(nm)節(jié)點邏輯半導(dǎo)體光罩的聯(lián)合研發(fā)達成協(xié)議。該協(xié)議尚包含開發(fā)用於下一世代半導(dǎo)體的高NA EUV光罩。

EUV光罩 © Toppan Photomask Co., Ltd.
EUV光罩 © Toppan Photomask Co., Ltd.

根據(jù)該協(xié)議,從2024年第1季起的5年內(nèi),IBM和Toppan Photomask計劃在Albany NanoTech Complex(美國紐約州奧爾巴尼)和Toppan Photomask的朝霞工廠(日本新座市)開發(fā)光罩技術(shù)。

2nm及更高節(jié)點的半導(dǎo)體量產(chǎn)需要先進的材料選擇和製程控制知識,這遠遠超出了使用ArF準分子雷射作為光源的傳統(tǒng)主流曝光技術(shù)的要求。IBM和Toppan Photomask協(xié)議整合這些重要材料和流程控制技術(shù),為2nm及更高節(jié)點的量產(chǎn)提供解決方案。

IBM和Toppan Photomask有著長久的技術(shù)合作歷史。2005年至2015年,IBM和Toppan Photomask(當時的凸版印刷)一直共同推進先進半導(dǎo)體光罩的研究開發(fā)。聯(lián)合開發(fā)從45nm節(jié)點開始,範圍擴大到32nm、22/20nm、14nm節(jié)點,及初步的EUV研發(fā)活動。所累積的技術(shù)專長為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出了貢獻。

此後,Toppan Photomask持續(xù)積極開發(fā)和生產(chǎn)用於EUV光刻的光罩和基板材料。此外,EUV量產(chǎn)光罩和下一代開發(fā)光罩的製造需要先進的多電子束光刻設(shè)備,Toppan Photomask安裝了多套最先進的多電子束光刻設(shè)備,以滿足最新的半導(dǎo)體技術(shù)路線要求。

Toppan Photomask代表取締役社長兼執(zhí)行長二之宮照雄表示: "我們與IBM的合作對兩家公司來說都非常重要。這項協(xié)議將在支持半導(dǎo)體微型化、推動產(chǎn)業(yè)進步以及為日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出貢獻等方面,發(fā)揮至關(guān)重要的作用。我們非常榮幸能夠在綜合評估我們的技術(shù)能力和成本競爭力的基礎(chǔ)上,被選為合作夥伴,我們將致力於加速實現(xiàn)2nm及更高節(jié)點製程。"

IBM全球半導(dǎo)體研發(fā)副總裁Huiming Bu表示:"利用EUV和高NA EUV光刻系統(tǒng)的新型光罩技術(shù)預(yù)期將在2nm及更高節(jié)點的半導(dǎo)體設(shè)計和製造中發(fā)揮關(guān)鍵作用。我們與Toppan Photomask的合作旨在透過開發(fā)新的解決方案來加速先進邏輯半導(dǎo)體的微型化創(chuàng)新,從而實現(xiàn)先進的代工製造能力,這是日本半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的關(guān)鍵部分。"

關(guān)於Toppan Photomask

Toppan Photomask Co., Ltd.(TPC)是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體光罩供應(yīng)商,也是Toppan Holdings Inc.(TYO:7911)的集團公司。TPC總部位於東京,利用遍布全球的客戶服務(wù)網(wǎng)路和位於主要地區(qū)的八個製造工廠,以業(yè)界領(lǐng)先的技術(shù)開發(fā)能力為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出貢獻。TPC還將業(yè)務(wù)領(lǐng)域擴展到奈米壓印模具和其他奈米製造產(chǎn)品。欲了解更多信息,請訪問官方網(wǎng)站 https://www.photomask.co.jp/tc/。

前瞻性聲明

本新聞稿包含IBM和Toppan Photomask基於當前認知、假設(shè)、期望的前瞻性聲明,涉及風(fēng)險和不確定性,可能導(dǎo)致實際結(jié)果與當前預(yù)期存在重大差異。

 

公司發(fā)言人                                                  公司代理發(fā)言人

Bud Caverly                                                    Angie Kellen

Toppan Photomasks, Inc.                                  Open Sky Communications

Phone: +1-503-913-0694                                  Phone: +1-408-829-0106                       

Email: bud.caverly@photomask.com                  Email: akellen@openskypr.com

 

消息來源: Toppan Photomasks

相關(guān)股票: OTC:TOPPY Tokyo:7911

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