霍尼韋爾電子材料榮膺三星奧斯汀半導體持續(xù)進步獎，出眾產品質量和先進材料技術受肯定

新澤西州莫里斯鎮(zhèn)2014年5月22日電 /美通社/ --  霍尼韋爾（紐約證券交易所代碼：HON）電子材料于今天宣布獲得三星奧斯汀半導體 (SAS) 頒發(fā)的三星持續(xù)進步獎 (SCIA)，肯定了霍尼韋爾在產品質量、材料技術以及采購流程上的優(yōu)質服務。

霍尼韋爾電子材料是三星奧斯汀半導體的靶材供應商，憑借出色的產品和服務獲此殊榮。同時作為全球領先的濺鍍靶材供應商，霍尼韋爾也向包括三星在內的眾多半導體廠商提供相關產品和服務，例如制造芯片內部連接線的金屬濺鍍材料等。

“三星是公認的行業(yè)領導廠商，對品質和持續(xù)進步有著很高的標準，能夠從其手中接過這一獎項，我們倍感榮幸?！被裟犴f爾副總裁兼電子材料部總經理大衛(wèi)·迪格斯 (David Diggs) 表示，“在半導體行業(yè)保持長勝的秘訣在于能夠于供應商和生產廠商之間保持一種緊密的互利共贏關系。此次得獎也正肯定了我們這一正確的努力方向?！?/p>

三星奧斯汀半導體發(fā)起這一獎項計劃的目的在于加強其與半導體材料供應商之間的關系，并推動產品品質的持續(xù)優(yōu)化。鑒于全新芯片的設計的復雜性，且每一塊芯片制作需要涉及上百道工序，類似三星這樣的生產廠商便需要借助他們的供應商來提供創(chuàng)新的材料技術和嚴格的質量標準。

霍尼韋爾電子材料隸屬于霍尼韋爾特性材料和技術集團，產品包括微電子聚合物、電子化學品以及其他的先進材料。同時，其金屬材料業(yè)務涵蓋一系列廣泛的產品，例如物理氣相沉積 (PVD) 靶材和線圈組、貴金屬熱電偶以及面向熱管理和電子互聯(lián)后端封裝制程應用的低阿爾法放射電鍍陽極和先進散熱材料等。

多信息請咨詢霍尼韋爾代表，或訪問 http://www.honeywell-pmt.com/sm/em/。