SK海力士公司（SK hynix Inc.）宣布，已將業(yè)界首款量產(chǎn)型高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)（High NA EUV）引進(jìn)韓國利川M16工廠。自2021年首次將極紫外光刻技術(shù)應(yīng)用于第四代10納米工藝（1anm）以來，SK海力士持續(xù)擴(kuò)大該技術(shù)在尖端DRAM量產(chǎn)中的應(yīng)用范圍。作為阿斯麥（ASML）高數(shù)值孔徑EUV產(chǎn)品線的首款量產(chǎn)機(jī)型，TWINSCAN EXE:5200B可實(shí)現(xiàn)比現(xiàn)有EUV系統(tǒng)小1.7倍的晶體管刻蝕，并使晶體管密度提升2.9倍。其數(shù)值孔徑從0.33提升至0.55，性能提升達(dá)40%。（美通社）